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第 0 卷,第 1 期,2008 年 1 月 2 日
强激光和粒子束
高功率激光和粒子束
卷。 20号1号
,2008 年 1 月
文章编号:()01-0075-041
溶胶-凝胶法制备高折射率T-TO2薄膜
(1. 中国科学院山西煤炭化学研究所煤炭转化国家重点实验室, 太原 030001;
,,,3
盛永刚1、徐耀1、张磊123、梁丽萍13、吴东1、孙玉涵1、姜晓东2、魏晓峰2
) 2. 中国工程物理研究院激光聚变研究中心, 四川 绵阳 621900; 000493. 中国科学院研究生院,北京1
采用高折射率光学薄凝胶法通过旋涂法对TiOsin-coating进行包覆。通过光散射技术和透射电子显微镜研究了溶胶的微观结构。利用原子力显微镜、超光谱仪、椭偏仪、漫反射吸收光谱仪和强激光辐照实验,研究了薄膜的结构、光学性能和抗激光损伤能力。纳米晶薄膜的折射率达到1。传统溶胶-凝胶薄膜的折射率仅为1。同时表征薄纳米晶体。结果显示:9,-6;
抗激光损伤阈值
2膜与传统的溶胶-凝胶膜差别不大,分别是10/(-64nm)和16.62/(的16.3Jcm3ns脉冲;纳米晶溶胶膜可以在较高的条件下保持抗激光损伤阈值高,薄膜折射率大大提高。Jcm3ns脉冲)
gel;-iO 关键词:sol T 折射率;激光损伤阈值 2 膜; 648; 436.1 文件代码:CLC 编号:OOA
[1-5]
。在众多高折射率材料中,TiO高能激光器的潜在应用极大地推动了高折射率光学薄膜的研发2
6-9]
薄膜因其高透明度、化学稳定性以及在可见光和近红外区域的低吸收而被广泛使用。传统物理方法电镀
且结构紧凑,抗激光损伤能力往往较差。不仅如此,由于技术和设备的限制溶胶凝胶无定型二氧化钛,所制备的光学薄膜容易出现化学缺陷,
物理方法难以制备大孔径和不规则形状的光学薄膜。溶胶-凝胶法可以很容易地在形状不规则、材料不同的基板上大面积制备薄膜。此外,溶胶-凝胶法工艺设备简单,工艺温度低,易于控制薄膜的化学成分和微观结构溶胶凝胶无定型二氧化钛,
] 10、能很好的控制薄膜的厚度[,有效避免化学缺陷。一般情况下,溶胶-凝胶法容易形成无定形多孔和网状]11结构,有利于缓冲激光能量。因此,溶胶-凝胶薄膜往往比物理薄膜具有更高的抗激光损伤阈值。但是-]12-13,这种非晶结构往往折射率较低,不利于其在多层高反射薄膜中的应用。为了达到给定的反射率,有必要
低折射率材料交替电镀的循环次数会增加薄膜间的界面应力,导致薄膜开裂,从而增加高-
计量和涂布过程带来了很大的困难。为了保留溶胶-凝胶法高阈值和大直径电镀的优点,同时具有高折射率,最
10] 最好的解决办法是在溶胶-凝胶过程中产生晶相T,以提高溶胶-凝胶薄膜的折射率[. -iO-2 粒子,
本文采用凝胶法制备高折射率optical-73K,采用低温旋涂法(低于3制备T)SiO2纳米晶溶胶,
对其微观结构、光学性能和抗激光损伤性能进行了研究,旨在为制备高折射率光学薄膜提供一种简单的方法。电影,
1 薄膜样品的制备与表征
乙醇和钛酸四异丙酯(完全反应去交联,然后缓慢滴加到1 TTIP中)00 mL二次去离子水,室温下,
同时剧烈搅拌。 T 乙醇和水的摩尔比为 1:1:1 调节 p,将混合物超声 TIP,00。然后加入浓硝酸,H 值在 1 和 3 之间,最后将处理 1 转移到3.高压灭菌,得到浅蓝色透明溶胶。将得到的溶胶还原5 min,53~433 K胶溶结晶2~10 h,旋涂法浓缩至5,K,0 mL醇盐水解缩聚,配位剂调节,9片光学薄膜沉积在玻璃基板上。为了比较,在KiO9玻璃上旋涂制备非晶T,制备TiO2 sol, 2薄膜。
) 粒度分析仪用于检测溶胶颗粒的大小和分布,测量角度为Oulter的N4Plus激光动态光散射(DLS用C;J用于考察溶胶的晶型) , 结合薄膜上沉积的干凝胶的 X90°eol 公司的 JEM-2010 透射电子显微镜 (TEM) 的 RD 曲线来确定晶体结构特征. F 和 PEI 公司的 XL30S-FEG 场发射扫描电子显微镜(FESEM)SIA公司XE-100原子力显微镜(观察薄膜的表面形貌。薄膜的透光率和Himadu公司UV-3150 UV-Xerogel的漫反射吸收(AFM)光谱采用S可见光和近红外仪器,用椭偏仪测量薄膜的折射率、吸收系数和厚度,薄膜的激光损伤实验在激光聚变研究中心进行呃,中国工程物理研究所,DRAS,使用N:波长10脉宽7。测量方法是RdYAG激光,64nm,5ns-
2007-08-14; 2007-11-29 收到: 修订:
资助单位:国家自然科学基金重点项目()20133040
作者简介:盛永刚(男,博士生,从事光学薄膜研究;1975—)申希。交流电cn. @sgyg 联系作者:徐瑶,。小溪。交流电cn@sy
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