电镀(Electroplating)就是利用电解原理在某些金属表面领域的成功应用

时间：2022-05-01 18:00:28来源：网络整理

PVD的基本方法：真空蒸镀、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、反应活性离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）。电镀是利用电解原理在某些金属表面镀上一层薄薄的其他金属或合金的过程。金属氧化（如生锈），提高耐磨性、导电性、反射率、耐腐蚀性（硫酸铜等），增强美观。 PVD：Physical Vapor Deposition：是指利用物理过程将原子或分子从源头转移到基材表面的过程，以实现材料转移。它的作用是在性能较低的基体上喷涂一些具有特殊性能（高强度、耐磨、散热、耐腐蚀等）的颗粒，使基体具有更好的性能。 PVD基本方法：真空蒸发、溅射、离子镀（空心阴极离子镀、热阴极离子镀、电弧离子镀、反应活性离子镀、射频离子镀、直流放电离子镀）。 PVD技术应运而生，制备的薄膜具有硬度高、摩擦系数低、耐磨性好、化学稳定性好等优点。在高速钢刀具领域的初步成功应用引起了世界各国制造业的高度关注。人们在研发高性能、高可靠性涂层设备的同时，也在硬质合金和陶瓷刀具上进行了更深入的涂层。层应用研究。与CVD工艺相比pvd涂层硬度，PVD工艺的加工温度较低，在600℃以下对刀具材料的抗弯强度没有影响；薄膜的内应力状态为压应力，更适用于硬质合金精密和复杂刀具的涂层； PVD工艺对环境无不良影响，符合现代绿色制造的发展方向。目前，PVD涂层技术已广泛应用于硬质合金立铣刀、钻头、阶梯钻、油孔钻、铰刀、丝锥、可转位铣刀片、车削刀片、异形刀具、焊接刀具等的涂层处理。 PVD技术不仅提高了薄膜与刀具基材的结合强度，而且涂层成分也从第一代TiN发展到TiC、TiCN、ZrN、CrN、MoS2、TiAlN、TiAlCN , TiN-AlN, CNx, DLC 和 ta-C 等多组分复合涂层。电镀：电镀时pvd涂层硬度，以被镀金属或其他不溶性物质为阳极，以被镀工件为阴极，被镀金属的阳离子在被镀工件表面被还原形成涂层。为了消除其他阳离子的干扰，使镀层均匀牢固，应采用镀层中含有金属阳离子的溶液作为电镀液，以保持镀层中金属阳离子的浓度不变。电镀的目的是在基材上镀上一层金属涂层，改变基材的表面性质或尺寸。电镀可以增强金属的耐腐蚀性（镀层金属多为耐腐蚀金属），增加硬度，防止磨损，提高导电性、光滑度、耐热性和表面美观。

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